5月27日，旭化成宣布将光掩模薄膜业务转让给三井化学，并已签署了相关协议。旭化成计划从三井化学获得74亿日元（约3.9亿人民币）作为分离后的权利和义务的对价，最终金额将根据最终协议进行调整后确定。

旭化成的光掩模薄膜业务，包括其在日本、韩国、北美和中国制造、开发和销售，以及受委托制造光掩模薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（业务），并预定生效日期为2023年7月1日。

今后，三井化学将充分利用旭化成旗下的岩国大竹工厂和延冈工厂，整合和结合旭化成和三井化学积累的开发制造能力，进一步拓展和提升业务。

光掩模，也叫半导体光罩，是半导体光刻工艺中的高精密工具，主要由基板和不透光材料组成，起到光刻机与大硅片的桥梁和纽带作用。

      从规模看，光掩膜仅约占芯片总成本的13%，其价值远低于占比38%的硅片，关注度更是与硅片相去甚远。但小小的光掩膜价值却非比寻常，它不仅是芯片制造中必不可少的核心材料之一，其质量的好坏更是直接决定芯片最终的性能。

      全球领先的光掩模制造商的总部也大多设在日本。据CSET预计，日本企业控制了53%的商业光掩模市场，美国企业占比40%，台湾企业占比7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks两家大厂都是日本厂商。